Технологический разрыв между западными производителями полупроводникового оборудования и китайскими компаниями остается критическим, несмотря на значительные государственные инвестиции КНР. Глава подразделения полупроводниковых технологий компании Carl Zeiss Фрэнк Рёммонд представил экспертную оценку, согласно которой китайской промышленности потребуется не менее 15 лет, чтобы достичь уровня современных технологий литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV).
Вызовы в разработке EUV-литографии
Основным препятствием для технологического суверенитета Китая остается создание EUV-машин — сложнейших установок, необходимых для производства микросхем по техпроцессам 7 нм и ниже. В настоящее время монополистом на этом рынке является нидерландская компания ASML, ключевым партнером которой выступает Carl Zeiss, поставляя высокоточную оптику. По мнению Рёммонда, попытки Китая воспроизвести данную технологию с нуля займут десятилетия.
- Китайским инженерам необходимо создать уникальные системы зеркал с точностью до атома.
- Отсутствие доступа к глобальной цепочке поставок компонентов замедляет процесс R&D.
- Действующие экспортные ограничения блокируют передачу западных ноу-хау.
Влияние санкций и потенциал DUV-технологий
Несмотря на пессимистичный прогноз по EUV, эксперт Carl Zeiss указал на возможные побочные эффекты западных санкций. Ограничения на экспорт систем DUV (глубокого ультрафиолета) могут стать катализатором для внутренних инноваций в Поднебесной. Поскольку Китай работает с DUV-технологиями уже много лет, блокировка импорта заставляет местных производителей интенсифицировать собственные разработки в этом сегменте.
Ограничения на экспорт DUV-машин могут ускорить инновации в Китае, который десятилетиями занимается этой технологией — подчеркнул Фрэнк Рёммонд, отметив при этом, что Carl Zeiss по-прежнему сохраняет значительное технологическое превосходство над любыми конкурентами.
В настоящее время китайские компании, такие как SMEE, пытаются сократить разрыв, однако их разработки пока сосредоточены на менее совершенных узлах литографии.
В долгосрочной перспективе полупроводниковая отрасль Китая продолжит сталкиваться с серьезными барьерами при попытке входа в эшелон производителей передовой логики. Хотя локализация производства DUV-оборудования может ускориться в ближайшие годы, создание полноценной экосистемы для EUV-литографии остается для КНР задачей отдаленного будущего, что обеспечивает текущим лидерам рынка устойчивое преимущество.