Китайские производители полупроводников завершили масштабную кампанию по закупке оборудования для микроэлектроники, сосредоточив на своих мощностях значительное количество систем глубокого ультрафиолета (DUV). Согласно отчету исследовательского центра «Технологии и государственное управление» (CTS), к началу 2026 года китайские предприятия будут оперировать парком из 343 иммерсионных литографических машин, что создает прочный фундамент для развития внутреннего производства современных микросхем в условиях экспортных ограничений.
Масштабы закупок и технический потенциал
Основу технологического парка КНР составляют установки голландской компании ASML. Из общего числа закупленного оборудования около 270 единиц приходится на модель Twinscan NXT:1980i. Несмотря на то, что данные машины относятся к предыдущему поколению по сравнению с системами экстремального ультрафиолета (EUV), они сохраняют высокую актуальность для индустрии.
- Суммарные инвестиции Китая в оборудование в период с 2024 по 2025 год превысили 13 миллиардов долларов.
- Технология DUV позволяет производить логические чипы и процессоры для искусственного интеллекта по 7-нанометровому техпроцессу методом многократного экспонирования.
- Наличие такого количества литографов снижает зависимость китайского сектора High-Tech от зарубежных поставок готовых кристаллов.
Геополитический контекст и риски ограничений
Накопление критически важного оборудования вызвало дискуссии в экспертных и правительственных кругах США. Ряд бывших чиновников и законодателей выступают за ужесточение мер контроля.
Необходимо закрыть лазейки в существующей системе лицензирования, полностью запретив экспорт подобных систем, а также ограничив поставку запасных частей и сервисное обслуживание уже проданных машин, — отмечается в докладе CTS.
Аналитики подчеркивают, что текущая ситуация позволяет Китаю не только поддерживать текущее производство, но и планомерно наращивать компетенции в сегменте высокопроизводительных вычислений.
Долгосрочные перспективы отрасли
Эксперты прогнозируют, что при сохранении текущих темпов импорта и обслуживания имеющихся мощностей, производственный потенциал Китая в сфере чипов для ИИ может продемонстрировать кратный рост к 2035 году. Формирование столь масштабной базы DUV-литографов фактически создает «технологическую подушку», которая позволит китайским компаниям продолжать разработки в области суверенной полупроводниковой экосистемы, даже в случае введения тотального эмбарго на новые поставки.