Аналитики финансового конгломерата UBS Group представили отчет, согласно которому КНР столкнется с серьезными технологическими барьерами при попытке создать собственные аналоги оборудования для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). Несмотря на значительные государственные инвестиции, эксперты прогнозируют, что китайская полупроводниковая отрасль не сможет разработать конкурентоспособную альтернативу решениям компании ASML в течение ближайших десяти лет.
Технологический разрыв и текущие возможности
Специалисты UBS подчеркивают, что текущий уровень развития литографических систем в Китае сопоставим с состоянием технологий нидерландской ASML образца 2004 года. Этот разрыв в два десятилетия обусловлен сложностью цепочек поставок и необходимостью освоения сверхточных оптических компонентов. EUV-литография является критически важной для производства чипов по техпроцессам 7-нм и ниже, которые используются в современных смартфонах и системах искусственного интеллекта.
Согласно прогнозу, китайские производители сфокусируются на более доступных сегментах:
- Освоение серийного выпуска иммерсионных DUV-сканеров (глубокий ультрафиолет) в течение 2–5 лет.
- Оптимизация существующих линий для производства зрелых техпроцессов (28-нм и выше).
- Развитие внутренних цепочек поставок фоторезистов и кремниевых пластин.
Ограничения экспорта и проблемы эффективности
Даже при условии успешного запуска производства, аналитики ожидают, что китайское оборудование не будет востребовано на мировом рынке. Основными причинами станут низкий выход годных изделий (yield) и недостаточная производительность по сравнению с западными аналогами. Дополнительным фактором выступают жесткие регуляторные ограничения со стороны США и их союзников, блокирующие доступ к ключевым патентам и компонентам.
Китайское литографическое оборудование, вероятно, не будет использоваться за пределами КНР из-за отставания в выходе годных изделий и производительности, а также регуляторных ограничений — отмечается в отчете UBS.
Таким образом, в ближайшее десятилетие стратегия Китая будет направлена на достижение технологического суверенитета внутри страны, однако выход на глобальный уровень в сегменте передовой литографии остается маловероятным. Перспективы отрасли будут зависеть от способности китайских инженеров сократить цикл разработки иммерсионных систем DUV, которые станут основой местной индустрии микросхем на ближайшие годы.