Китай создал прототип EUV-литографа для передовых чипов
Китай добился значительного прогресса в стремлении к технологической независимости в полупроводниковой отрасли, разработав собственный прототип фотолитографического станка на основе экстремального ультрафиолета (EUV). Эта технология является критичес...